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Gleichm??igkeit des Fl?chenwiderstands von Metallfilmen

Die Gleichm??igkeit des Fl?chenwiderstands ist entscheidend für die Gew?hrleistung der Ger?teperformance. Die meisten Metallfilme k?nnen sowohl mit 4PP als auch mit EC gemessen werden. EC wird für dickere, hochleitf?hige Metallfilme empfohlen, 4PP für dünnere Metallfilme ( > 10Ω/sq). Eine sehr hohe 4PP/EC-Korrelation gew?hrleistet genaue Ergebnisse mit beiden Methoden.

Die R50-Widerstandsmaps zeigen die Gleichm??igkeit der Beschichtung, die Qualit?t der Abscheidung und andere Prozessparameter auf. Diese EC-Map eines 2 μm AlCu-Films zeigt und quantifiziert eine dezentrale Abscheidung.

Die Ionenimplantationscharakterisierung

(4PP) ist die Standardmethode zur Messung von Ionenimplantationsprozessen. Durch das Mappen des Fl?chenwiderstands nach dem Annealing lassen sich hei?e und kalte Stellen identifizieren, die auf Lampenausfall, schlechten Wafer-/Plattenkontakt oder Schwankungen der Implantat Dosis zurückzuführen sind. Für eine ionenimplantierte Siliziumschicht ist Annealing erforderlich, um die dotierten Ionen zu aktivieren.

Im Beispiel links zeigen die drei roten Punkte Orte mit hohen Widerst?nden an. An diesen Stellen tritt w?hrend dem Annealen der gr??te W?rmeverlust aufgrund der drei Waferhalterung. (Beispiel rechts) Temperaturgleichm??igkeit ist beim Annealen entscheidend, W?rmeverluste am Waferrand und an den Kontaktstellen k?nnen eine ernsthafte Herausforderung darstellen. Beachten Sie, dass für lichtempfindliche Proben die Filmetrics R54-Serie mit geschlossenem Geh?use empfohlen wird.

Schichtdicke/Resistivit?t/Fl?chenwiderstand

Gemessene Wafer Daten k?nnen als Fl?chenwiderstand, Schichtdicke oder Resistivit?t abgebildet werden. Durch Eingabe des Resistivit?ts für ein Material kann dessen Schichtdicke berechnet und angezeigt werden; Die Resistivit?t kann berechnet werden, wenn der Schichtdickenwert eingegeben wird.

Datenerfassung und Visualisierung

RsMapper ist die intuitive Benutzeroberfl?che von R50, die Datenerfassungs- und Analysefunktionen in einer einzigen Plattform vereint. Die Software kann entweder direkt am Tool oder separat für Offline-Analysen verwendet werden. Die Koordinaten für Messstellen kann einfach mithilfe verschiedener Layouts festgelegt werden.

Die RsMapper-Plattform kann die Messergebnisse entweder in 2D oder 3D anzeigen, um wichtige Daten zur Filmgleichm??igkeit schnell zu visualisieren, wie bei dem Ionenstrahl-Scanning-Muster links dargestellt. Die Software erm?glich das Wechseln zwischen Maps einzelner Messparameter und drehbaren 3D-Profilen, um individuelle Ansichten der Prozessparameter bereitzustellen. Ob Sie Fl?chenwiderstand, Resistivit?t oder Metallfilmdicke messen – RsMapper liefert überzeugende visuelle Daten.