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Gleichm??igkeit des Fl?chenwiderstands von Metallfilmen

Die Gleichm??igkeit des Fl?chenwiderstands ist entscheidend für die Performance der Endger?te. Die meisten Metallfilme k?nnen sowohl mit 4PP als auch mit EC gemessen werden. EC wird für dickere, hochleitf?hige Metallfilme empfohlen, 4PP für dünnere Metallfilme (> 10Ω/sq). Eine sehr hohe 4PP/EC-Korrelation gew?hrleistet genaue Ergebnisse bei beiden Methoden.

Die Fl?chenwiderstand Maps von Filmetrics R54 zeigen die Gleichm??igkeit der Filmdicke, die Qualit?t der Abscheidung und andere Prozessvariationen auf. Das Beispiel links ist die Map einer TiWN-Schicht, die den Fingerabdruck des Batch-Reaktors entspricht.

Optimierung des Ionenimplantationsprozesses

Die 4PP-Sonde ist die Standardmethode zur Messung von Ionenimplantationsprozessen. Die Filmetrics R54-Software umfasst I-V-Kurvenaufzeichnungen und Strom-Ramp-Scans. Die Funktionen sind hilfrech um den verwendeten Strom w?hrend der Messung zu optimieren oder Stromlecks zwischen einer Implantatschicht und dem tragenden Siliziumsubstrat zu identifizieren. Kontur Maps und Durchmesserscans eines Ionenimplantationswafers nach dem thermischen Annealen k?nnen hei?e und kalte Stellen aufzeigen, die auf Lampenausfall, schlechten Wafer-/Plattenkontakt oder Schwankungen der Implantatdosis zurückzuführen sind.

Im Beispiel links wurde der Prozess optimiert, indem der thermische Kontakt auf der Rückseite verbessert wurde. Eine genaue Messung des Fl?chenwiderstands entlang der Wafer-Durchmesser liefert die notwendigen Informationen, um das Heizprofil des Reaktors zu optimieren und so Ungleichm??igkeiten zu reduzieren.

Film- Dicke/-Resistivi?t/Fl?chenwiderstand

Gemessene Waferdaten k?nnen als Fl?chenwiderstand, Filmdicke oder Resistivit?t abgebildet werden. Durch Eingabe eines Resistivit?t-Wertes (oder einer widerstandsabh?ngigen Funktion) für ein Material kann dessen Dicke berechnet und angezeigt werden; Die Resistivit?t kann berechnet werden, wenn der Schichtdickenwert eingegeben wird.

Datenerfassung und Visualisierung

RsMapper ist die intuitive Benutzeroberfl?che von R50, die Datenerfassungs- und Analysefunktionen in einer einzigen Plattform vereint. Die Software kann entweder direkt am Tool oder separat für Offline-Analysen verwendet werden. Die Koordinaten für Messstellen kann einfach mithilfe verschiedener Layouts festgelegt werden.

Die RsMapper-Plattform kann die Messergebnisse entweder in 2D oder 3D anzeigen, um wichtige Daten zur Filmgleichm??igkeit schnell zu visualisieren, wie bei dem Ionenstrahl-Scanning-Muster links dargestellt. Die Software erm?glich das Wechseln zwischen Maps einzelner Messparameter und drehbaren 3D-Profilen, um individuelle Ansichten der Prozessparameter bereitzustellen. Für den Remote-Betrieb ist eine SECS/GEM Basic Schnittstelle verfügbar.